又一“卡脖子”新材料！三菱化学再布局！产能翻倍！

来源：读创、界面新闻、势银膜链、化工新材料

9月25日消息，三菱化学将在日本国内新建半导体材料工厂，最早在2024财年（截至2025年3月）投产。三菱化学计划建设生产用于光刻胶（感光材料）的高分子材料的新工厂，加上现有基地，预计产能将增至2倍。据悉，新工厂的投资额预计将达数十亿日元规模，生产地点将在今后敲定。

据了解，三菱化学或以其在日本福冈县的事务所为中心，为新工厂选址。报道称，三菱化学选址是考虑到半导体龙头台积电有在与福冈县同处九州岛的熊本县设厂，扩充供应链的机会较高。三菱化学正在积极投资，以期强化公司半导体相关事业。

报道表示，三菱化学使用的半导体光刻胶目前由神奈川县的工厂制造，但随着面向智能手机、电脑等更为精细的需求，制造的难易度也在上涨。公司预计未来客户对相关业务需求会逐渐上升。

公开资料显示，三菱化学公司由三菱化成公司和三菱油化有限公司于1994年10月1日合并而成，是日本最大的化学公司。主营产业包括功能材料和塑料产品（包括信息及电子产品、专业化学制品、制药）；石油化工；碳及农业产品。

光刻胶概况

光刻胶是电子工业中的一种关键化工产品，其功能主要是“转移图形”。

光刻胶又称为光致抗蚀剂，是一种感光材料，其中的感光成分在光的照射下会发生化学变化，从而引起溶解速率的改变，其主要作用是将掩模版上的图形转移到晶圆片等衬底上。光刻胶的工作原理如图所示。首先，将光刻胶涂布在衬底片上，前烘去除其中的溶剂；其次，透过掩模版进行曝光，使曝光部分的感光组分发生化学反应；然后，进行曝光后烘烤；最后通过显影将光刻胶部分溶解（对于正光刻胶，曝光区域被溶解；对于负光刻胶，未曝光区域被溶解），从而实现集成电路图形从掩模版到衬底片的转移。

 光刻胶工作原理

目前，全球高端光刻胶市场主要被日本和美国企业所垄断，国产光刻胶在技术和市场上都面临巨大的挑战。过去，由于国产光刻胶技术水平较低，国内芯片制造企业不得不依赖进口光刻胶。然而，在当前国际政治经济环境下，国产芯片制造业面临着前所未有的压力。为了保障国家信息安全和科技自主，国产光刻胶的研发和应用已经迫在眉睫。想了解更多光刻胶信息请点击【化工新材料】往期推文：被日本“卡脖子”！华为麒麟9000S芯片出现后，这一新材料突破迫在眉睫！

原材料自主供应成光刻胶本土替代关键环节

以光刻胶原料为例，原料是光刻胶产业的重要环节，原料的品质也决定了光刻胶产品品质。光刻胶上游原材料是指光刻胶专用化学品一级原料，可以细分为感光剂（光增感剂、光致产酸剂）、溶剂、成膜树脂及添加剂（助剂、单体等）。在典型的光刻胶组分中，一般溶剂含量最大占到65%-90%，成膜树脂占5%-25%，感光剂及添加剂占15%以下。

我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，但国家层面非常重视，从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。尽管取得了一定成果，但技术水平仍与国际水平相差较大，作为原料的主要专用化学品仍然需要依赖进口。

同时在当前市场中，受光刻胶产品特性影响，光刻胶用原材料更偏向于客制化产品，原材料需要满足特定的分析结构、分子量、纯度以及粒径控制等。

在光刻胶用树脂方面，国内市场需求量较大，国内光刻胶企业除了部分内制外，大部分还会定向采购国外树脂产品，国外供应商有群荣化学、住友电木、旭有机材、日本曹达、丸善化学等，国内供应商基本很少能进入本土光刻胶材料供应链。

在光刻胶用光引发剂方面，国内市场需求量可达数百吨，国外供应商有巴斯夫、IGM、东洋合成、大东化学、默克等，国内也有强力新材、大晶信息等少数几家主攻光刻胶用光引发剂的厂商。

面对加速成长的国内光刻胶市场以及本土光刻胶企业不断进入下游晶圆厂/面板厂的供应链体系的新形势，企业应重点聚焦于光刻胶上游供应链的完备性，深度挖掘光刻胶一级原料的市场竞争环境、供应情况等，提升国内光刻胶上游原材料市场的成熟度。

三菱化学近期动态

1扩能EVOH

据Plasteurope9月18日报道，三菱化学打算将其位于英国赫尔（Hull）的SoarnoL品牌乙烯-乙烯醇共聚物（EVOH）的产能提高一倍以上。据悉，该公司目前的年产量为18,000吨。三菱表示，到2025年7月，年产量将增至3.9万吨，并补充说该工厂已于2023年4月开工建设。详情请点击【化工新材料】往期推文：需求激增！我国被“卡脖子”！三菱化学宣布扩能这一新材料！

2考虑将石化业务上市

据此前媒体报道，三菱化学正考虑最快2027年将其石化业务上市，计划与其他合作伙伴以合资企业形式经营该业务。详情请点击【化工新材料】往期推文：三菱化学拟将石化业务上市！最快2027年实现！

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